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早年被EUV联盟孤立 台积电大佬讲述翻身内幕:靠沉浸式光刻崛起

时间:2021-12-28 15:52:09数码科技领域优质创作者:[dede:field.writer/] 人气:来源:九九常识网
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本文标题:早年被EUV联盟孤立 台积电大佬讲述翻身内幕:靠沉浸式光刻崛起

这几年中。台积电一跃成为半导体制造行业的大哥。不仅是全球晶圆代工的绝对主力。而且先进工艺也超越了Intel、三星等对手。更是首发了EUV光刻工艺。明年还要量产3nm工艺。

台积电的崛起过程也不是一帆风顺的。实际上还非常艰辛。因为20年前Intel等公司如日中天的时候。一度将台积电排除在先进工艺之外。

前台积电研发副总林本坚日前提到了这段往事。他指出2002年左右。Intel拉拢摩托罗拉、AMD等公司成立了EUV LCC联盟。一起出钱出力研发EUV光刻设备。希望用于未来的60nm、40nm等工艺。

当时台积电也希望参与EUV联盟。但是被排挤。因为只限于6家公司。最终IBM抢到最后一个位置。台积电无缘。

虽然台积电没有加入EUV联盟。但是他们并没有灰心。转而研究了沉浸式光刻技术(光刻工艺与折射率相关。水中的折射率比空气要高。有利于提高光刻分辨率)。最终实现了翻身。现在沉浸式光刻技术已经成为主流。ASML的先进光刻机都应用了该技术。

林本坚指出。当年参与EUV联盟的半导体企业中。除了Intel。其他5家公司已经退出芯片制造了。

PS:对于台积电来说。林本坚是台积电工艺翻身的大佬之一。他在IBM公司工作了22年。主要从事光刻技术研究。2000年被蒋尚义招募到台积电。2002年提出沉浸式光刻技术。带领台积电在芯片制造上翻身。奠定了今日的基础。功不可没。

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#台积电#极紫外光刻

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